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图形畸变是由临近效应引起的，这是由于散射电子倾向于将临近的不准备曝光的区域曝光，这种效应在应用电子束曝光中要比用光学曝光严重得多。我们将散射类型分为前向散射和背向散射。前向散射发生在相对入射速度方向的一个小的角度范围内，并将导致图形轻微展宽，除非使用更高能量的电子或非常薄的光刻胶，否则前向散射会限制图形的分辨率。背向散射造成大面积曝光模糊。为了降低这个这个展宽效应，大多数高分辨率的EBL是利用薄的光刻胶来实现的。然后图形被转移到较厚的掩模层上，它可被用来获得预期的图形。针对给定的光刻胶，将入射电子束能量优化。 图形畸变在膜片掩模版中是一个严重的问题。除了与掩模版的电子束只写有关的位置错误外，严...
【图的意思】：图（圖） tú（ㄊㄨˊ） （一）、用绘画表现出来的形象：图画。图案。图谱。图鉴。（二）、指地图：《亚 详情>
【形的意思】：形 xíng（ㄒ一ㄥˊ） （一）、实体：形仪（体态仪表）。形体。形貌。形容。形骸。形单影只。形影相吊 详情>
【畸的意思】：畸 jī（ㄐ一） （一）、不规则的，不正常的：畸形。畸胎。畸人。畸变。（二）、残余，零星：畸数。畸零 详情>
【变的意思】：变（變） biàn（ㄅ一ㄢˋ） （一）、性质状态或情形和以前不同，更改：变调。变动。变法。变为。变革 详情>
